Il sistema di ricottura termica rapida esposto in mostra
Il sistema di ricottura termica rapida esposto in mostra
Sistema di ricottura termica rapida
Attrezzatura a semiconduttore
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Sistema di ricottura RTP-SA-8
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sistema di tempera termico rapido di 150mm con tre gas trattati degli insiemi
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SP-Face 11-12 Non dopato GaN monocristallino di tipo N in posizione libera Resistenza del substrato 0,05 Ω·cm Densità di difetto macro 0cm−2
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JDCD06-001-005 Wafer di silicio da 6 pollici Dispositivi MEMS Circuiti integrati Substrati dedicati per dispositivi discreti
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JDCD06-001-006 Wafer di silicio da 8 pollici Dispositivi MEMS Circuiti integrati Substrati dedicati per dispositivi discreti
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