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Dettagli:
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| Orientamento: | （010）(201) | Dimensioni: | 10*10mm; 10*15mm |
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| Nome di prodotto: | Singolo Crystal Substrate | Verniciatura: | UID |
| FWHM: | <350arcsec> | Ra: | ≤0.5nm |
| Evidenziare: | wafer Ga2O3 di 10x10mm,wafer di monocristallo di 10x15mm,Ga2O3 wafer 10x15mm |
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10x15 mm2(-201)Ga autoportante drogato con UID2O3substrato monocristallino Qualità del prodotto lucidatura singola Spessore 0,6~0,8 mm FWHM＜350arcsec, Ra≤0,5nm Resistenza 4,13E+17Ω/cm-3Dispositivi optoelettronici, strati isolanti di materiali semiconduttori e filtri UV
Con una maggiore efficienza energetica, parti di lavoro richieste più piccole e una frequenza di commutazione più elevata, aumenta la densità di potenza che, se si considerano tutti questi fattori, porta a velocità del dispositivo molto più elevate.La potenza di elaborazione è notevolmente aumentata rispetto ai dispositivi basati su silicio.Pertanto, se si confronta un dispositivo al gallio con uno al silicio, le velocità di elaborazione sul dispositivo al nitruro di gallio saranno notevolmente più elevate.
| Substrato di nitruro di gallio - Livello di ricerca | ||
| Dimensioni | 10*10 mm | 10*15 mm |
| Spessore | 0,6~0,8 mm | |
| Orientamento | (010) | (201) |
| Doping | UID | |
| Superficie lucida | Singolo lato lucidato | |
| Resistività/Nd-Na | / | 4.13E+17 |
| FWHM | <350 secondi d'arco | |
| RA | ≤0,5 nm | |
| Pacchetto | Confezionato in camera bianca di classe 100, in atmosfera di azoto | |
Chi siamo
Siamo specializzati nella lavorazione di una varietà di materiali in wafer, substrati e parti in vetro ottico personalizzate. Componenti ampiamente utilizzati in elettronica, ottica, optoelettronica e molti altri campi.Abbiamo anche lavorato a stretto contatto con molte università, istituti di ricerca e aziende nazionali e internazionali, fornendo prodotti e servizi personalizzati per i loro progetti di ricerca e sviluppo.La nostra visione è mantenere un buon rapporto di collaborazione con tutti i nostri clienti grazie alla nostra buona reputazione.
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