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2 pollici di GaN sul silicone Blu LD Epi Wafer GaN laser blu sul silicio

Certificazione
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2 pollici di GaN sul silicone Blu LD Epi Wafer GaN laser blu sul silicio

2 pollici di GaN sul silicone Blu LD Epi Wafer GaN laser blu sul silicio
2 pollici di GaN sul silicone Blu LD Epi Wafer GaN laser blu sul silicio 2 pollici di GaN sul silicone Blu LD Epi Wafer GaN laser blu sul silicio

Grande immagine :  2 pollici di GaN sul silicone Blu LD Epi Wafer GaN laser blu sul silicio

Dettagli:
Luogo di origine: Cina
Marca: Ganova
Numero di modello: JDWY03-002-013
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 5
Imballaggi particolari: Imballato nell'ambiente della stanza pulita della classe A 100, in contenitore 25PCS, nell'ambito di
Termini di pagamento: T/T

2 pollici di GaN sul silicone Blu LD Epi Wafer GaN laser blu sul silicio

descrizione
Dimensione: 2 pollici
Evidenziare:

Wafer epitaxiale da 2 pollici

,

Wafer epi da 2 pollici

,

Wafer epi sic da 2 pollici

Introduzione al GaN sul wafer Epi HEMT di silicio
Il wafer epitaxiale HEMT a base di nitruro di gallio a base di silicio è un wafer epitaxiale a transistor ad alta mobilità elettronica (HEMT) basato su materiale a base di nitruro di gallio (GaN).La sua struttura comprende principalmente uno strato di barriera AlGaNQuesta struttura consente agli HEMT di nitruro di gallio di avere una elevata mobilità elettronica e velocità elettronica di saturazione,con una lunghezza massima di 20 mm o più, ma non superiore a 20 mm.
Caratteristiche strutturali
Heteroconnessione AlGaN/GaN: l'HEMT del nitruro di gallio si basa sull'eteroconnessione AlGaN/GaN, che forma un canale di gas elettronico bidimensionale (2DEG) ad alta mobilità elettronica attraverso l'eteroconnessione.
Tipo di esaurimento e tipo di potenziamento: i wafer epitaxiali HEMT al nitruro di gallio sono suddivisi in tipo di esaurimento (modo D) e tipo di potenziamento (modo E).Il tipo esaurito è lo stato naturale dei dispositivi di alimentazione GaN, mentre il tipo migliorato richiede processi speciali per ottenere.
Processo di crescita epiteliale: la crescita epiteliale comprende lo strato di nucleazione di AlN, lo strato tampone di rilassamento dello stress, lo strato di canale GaN, lo strato di barriera di AlGaN e lo strato di copertura di GaN.
processo di produzione
Crescita epitaxiale: coltivazione di uno o più strati di film sottili di nitruro di gallio su un substrato di silicio per formare wafer epitaxiali di alta qualità.
Strato di passivazione e copertura: lo strato di passivazione del SiN e lo strato di copertura del u-GaN sono solitamente utilizzati su wafer epitaxiali al nitruro di gallio per migliorare la qualità della superficie e proteggere i wafer epitaxiali.
area di applicazione
Applicazioni ad alta frequenza: a causa dell'elevata mobilità degli elettroni e della velocità degli elettroni di saturazione dei materiali al nitruro di gallio,Gli HEMT al nitruro di gallio sono adatti per applicazioni ad alta frequenza come la comunicazione 5G, radar e comunicazioni satellitari.
Applicazioni ad alta potenza: gli HEMT al nitruro di gallio hanno buone prestazioni in applicazioni ad alta tensione e alta potenza, adatte a settori come veicoli elettrici, inverter solari e alimentatori industriali.


Specifiche del prodotto

 

Laser blu GaN da 2 pollici sul silicio.

Articolo

Sottostati di Si (Si)

Buffer Al(Ga) N UGAN nGaN AlGaN InGaN

MQW

(1-3 coppie)

InGaN AlGaN pGaN Strato di contatto
InGaN-QW GaN-QB
Dimensione 2 pollici
Spessore 1000 nm 1300-1500 nm 1300-1500 nm 1200-1500 nm 70-150 nm ~ 2,5 nm ~ 15 nm 70-150 nm 400-600 nm / 10 nm
Composizione Al% / / / 5-8 / / / / 5-8 / /
In % / / /   2-8 ~ 15 / 2-8 / / /
Doping [Si] / / 5.0E+18 2.0E+18 2.0E+18 / / / / / /
[Mg] / / / / / / / / 2.0E+19 2.0E+19 /
Laser di lunghezza d'onda 455 ± 5 nm
Struttura del substrato 10nmConnect layer/pGaN/400-600nmAlGaN/70-150nmInGaN/~15nmGaN-QB/~2.5nmInGaN-QW/70-150nmInGaN/1200-1500nmAlGaN/1300-1500nmnGaN/1300-1500nmuGaN/1300-1500nmuGaN/1000nmAl(Ga)N buffer/Si(111)
Pacco Confezionato in ambiente di stanza pulita di classe 100, in contenitori da 25 PCS, in atmosfera di azoto

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 


 

Su di noi

Siamo specializzati nella lavorazione di una varietà di materiali in wafer, substrati e componenti di vetro ottico personalizzati ampiamente utilizzati in elettronica, ottica, optoelettronica e molti altri campi.Abbiamo anche lavorato a stretto contatto con molte università nazionali ed estere, istituti di ricerca e imprese, forniscono prodotti e servizi personalizzati per i loro progetti di R & S.È la nostra visione di mantenere un buon rapporto di cooperazione con tutti i nostri clienti dalla nostra buona reputazione.

 

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Domande frequenti

D: Lei è una società commerciale o un produttore?
Siamo una fabbrica.
D: Quanto tempo avete per consegnare?
Generalmente sono 3-5 giorni se le merci sono in magazzino.
o 7-10 giorni se le merci non sono in magazzino, dipende dalla quantità.
D: Fornisci dei campioni? Sono gratuiti o extra?
Sì, potremmo offrire il campione gratuitamente, ma non pagare il costo del trasporto.
D: Quali sono i vostri termini di pagamento?
Pagamento <= 5000USD, 100% in anticipo.
Pagatori >=5000USD, 80% T/T in anticipo, saldo prima della spedizione.

 

Trasportatore


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Dettagli di contatto
Shanghai GaNova Electronic Information Co., Ltd.

Persona di contatto: Xiwen Bai (Ciel)

Telefono: +8613372109561

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