La CINA Sapphire Wafer

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  Sapphire Wafer lucidata specchio EPI Front Surface pronto

  Orientamento di superficie:Un-aereo (11-20)

  Materiale:Μm del ₃ del ₂ O di Al di elevata purezza (>99.995%)

  Spessore:430 ±10μm

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  JDCD08-001-007 Wafer di substrato in zaffiro piano C da 8 pollici

  Materiale:Elevata purezza Al2O3 (>99.995%)

  Orientamento di superficie:C-aereo (0001)

  R-aereo:R9

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  C-aereo Sapphire Substrate Wafer di JDCD08-001-006 6inch

  Materiale:Elevata purezza Al2O3 (>99.995%)

  Orientamento di superficie:C-aereo (0001)

  Spessore:625 ±15μm

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  JDCD08-001-005 Wafer di substrato in zaffiro R-Plane da 4 pollici

  Materiale:Elevata purezza Al2O3

  Diametro:100.0±0.2mm

  Spessore:460±25μm

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  R-aereo Sapphire Substrate Wafer di JDCD08-001-004 2inch

  Orientamento di superficie:Piano R，0±0.1°

  Orientamento piano:C su R,CCW45±1°

  Spessore:μm 500±15

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  JDCD08-001-002 Wafer di substrato in zaffiro A-Plane da 2 pollici

  Orientamento di superficie:Un-aereo (11-20)

  Spessore:430 μm del ± 10

  R-aereo:R9

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  JDCD08-001-003 Wafer substrato zaffiro M-Plane da 2 pollici

  Orientamento di superficie:M.-aereo (1010)

  Spessore:430 μm del ± 10

  Orientamento piano:Un-aereo (11-20)

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